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关于不锈钢中频磁控溅射真空镀膜
磁控溅射镀膜技术，一门精密的表面处理工艺，通过精确操控真空环境与粒子运动，为我们揭示了一种独特的材料沉积过程。
磁控溅射镀膜，即PVD（物理气相沉积）的瑰宝，是真空镀膜工艺的高端技术。其独特的原理和薄膜生长过程，如同一场精密的舞蹈，让我们深入了解一下。
要尽量保证磁场的均匀性和方向一致性，形成一个相对均匀的空间磁场。要尽量保证气压上下的均匀性，真空腔体设计时，要考虑真空泵的安装位置，和工艺气体进气方式以及腔体内工艺气管的布局。
磁场大，束缚的自由电子增多，溅射速率增大，磁场小，束缚的自由电子就少，溅射速率降低。稳定住气场和磁场，溅射速率也将随之稳定。
靶材安装：首先将靶材安装到磁控溅射设备上的靶架或支撑结构上。这个结构通常由导电材料（例如不锈钢）制成，以确保良好的电气连接。 接线方法：将一个接地的导线连接到系统合适位置的接地端以保持靶材与系统接地。
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